Ultrafialový filtr

UV NANO-X MRC

Určeno pro fotoaparáty FujiFilm:

• X100VI
• X100V
• X100F
• X100T
• X100S
• X100

FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITY

VĚNOVÁNO PROFESIONÁLŮM

FILTR S INOVATIVNÍMI NANO POVLAKY

• Filtr zabraňuje odleskům a podsvícení a zajišťuje bezchybnou ostrost obrazu
• Barvy zůstávají přirozené a jasné
• Filtr snižuje mlhu, která se může vyskytovat na moři nebo na horách
• Ultra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
• 28 Nano-antireflexních a ochranných vrstev
• Filtr je voděodolný a odolný proti poškrábání
• Kroužek vyrobený s hliníkem, opatřený lichoběžníkovým vzorem, který usnadňuje montáž a demontáž filtru
• Přední rám filtru je magnetický a lze jej kombinovat s magnetickými filtry K&F CONCEPT o průměru 52 mm
• Na filtr lze připevnit i kryt od K&F CONCEPT určený pro systém (dostupný i v naší nabídce)
• Včetně pevného obalu pro uložení filtru

Produkt společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr v kvalitě ve výrobě fotografických filtrů

MODEL : KF01.2703 / UV MRC

Společnost K&F CONCEPT představuje kvalitní a profesionální UV filtry. Jedná se o špičkové filtry, málokteré filtry se jim vyrovnají kvalitou zpracování a stupněm pokročilosti.

Filtr má až několik desítek nano-povlaků nanesených vrstveně na optické šlo.

Ultrafialový filtr – UV absorbuje ultrafialové záření tím, že odřízne záření, které se v největší intenzitě vyskytuje v podmínkách, kde je vzduch mimořádně průhledný (zejména na horách a u moře), a které na fotografii vyvolává efekt zamlžení.

UV filtr NANO-X MRC nejen zlepšuje kvalitu fotografií, ale je také vynikající ochranou pro objektiv proti všem druhům pylu, mastnoty, prachu a mechanickému poškození.

Vlastnosti K&F UV filtru NANO-X MRC:

• Vyrobeno z prvotřídního japonského optického skla, díky tomu je přenos světla mnohem vyšší a činí více než 99,9 %
• Filtr má speciální nano-povlaky pro výrazné snížení odlesků a zlepšení pořízených snímků
• Filtr je také pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky rozhodně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistot
• Super tenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIM
• Vynikající hodnota za peníze

Filtr je vhodný m.in pro následující fotoaparáty FujiFilm:

• X100VI
• X100V
• X100F
• X100T
• X100S
• X100

• Filtr je potažen povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Státní vynikající ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkách
• Filtr má povrchy, které rozhodně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistot
• Filtr vykazuje voděodolné vlastnosti

• Přední rám filtru je magnetický a lze jej kombinovat s magnetickými filtry K&F CONCEPT o průměru 52 mm
• Na filtr lze připevnit i kryt od K&F CONCEPT určený pro systém (k dostání samostatně v naší nabídce)

Součástí balení:

• 1× UV filtr
• 1× pevný, pevný obal proti poškrábání, poškození a pro snadnou přepravu filtru

Příklad použití filtru K&F CONCEPT NANO-X MRC

Pozor! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další doplňkové příslušenství zobrazené na fotografiích plní pouze náhledovou roli a nejsou předmětem prodeje.

Produkt z výroby nový, v originálním balení.

Kód výrobku (SB kód): SB9093