10× více produktů za nejlepší ceny
10× více produktů za nejlepší ceny
Záruka: 24 měsíců (IČ 24 měsíců) Kód: 42957009

K&F Concept UV FILTR Ultra Low Reflection K&F CONCEPT NANO-X MRC 58 mm 58 mm

K&F Concept UV FILTR Ultra Low Reflection K&F CONCEPT NANO-X MRC 58 mm 58 mm

Partnerský prodej - cenu dopravy určuje partner
UV ultrafialový filtr NANO-X MRCUltra-nízký odrazVelikost filtru: 58 mmFILTR NEJVYŠŠÍ KVALITYURČENÝ PRO PROFESIONÁLYFILTR S INOVATIVNÍMI NANO-POVLAKYVelmi nízká odrazivost 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnostNová technologie titanového Celý popis
723 Kč
Zboží od: SystemBank
723 Kč
Vrácení zdarma přes Zásilkovnu
S novou kartou za

30.12.2024 - 31.12.2024 na vaší adrese

Popis

UV ultrafialový filtr NANO-X MRC

Ultra-nízký odraz

Velikost filtru: 58 mm

FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITY

URČENÝ PRO PROFESIONÁLY

FILTR S INOVATIVNÍMI NANO-POVLAKY

  • Velmi nízká odrazivost 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnost
  • Nová technologie titanového lakování (titanový povlak) účinně eliminuje možné zežloutnutí obrazu
  • Filtr zabraňuje oslnění a zvýraznění a zajišťuje bezchybnou ostrost obrazu
  • Ultra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
  • 28 antireflexních a ochranných nanovrstv
  • Super nízký profil typu SLIM (pouze 3,3 mm silný)
  • Prsten z galvanicky černěného hliníku
  • Včetně pevného obalu pro uložení filtru

Výrobek společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr kvality ve výrobě fotografických filtrů

MODEL : KF01.2463 / 58 mm NANO X UV Ultra Low Reflection

Společnost K&F CONCEPT představuje kvalitní profesionální UV filtry. Jedná o špičkové filtry, které kvalitou zpracování a stupněm pokročilosti jen málo vyrovnají.

Filtr má několik desítek nanovrstv, které jsou nanášeny vrstvením na optické blány.

UV filtr – UV filtr absorbuje ultrafialové záření, čímž odřízne záření, které v největší intenzitě vyskytuje v podmínkách, kde je vzduch mimořádně průhledný (zejména na horách a u moře), a které na fotografii vytváří efekt mlhy.

UV filtr NANO-X MRC nejenže vylepšuje kvalitu fotografií, ale je také skvělou ochranou objektivu před všemi druhy pylů, mastnoty, prachem a mechanickým poškozením.

Vlastnosti filtru K&F UV NANO-X MRC:

  • Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a je více než 99,9%
  • Filtr má speciální nanovrstvy pro výrazné snížení oslnění a zlepšení pořízených snímků.
  • Filtr je také potažen povlaky, které vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povrchová úprava výrazně usnadňuje čištění filtrů a zabraňuje nadměrnému přitahování prachu, pylů a jiných nečistot.
  • Vynikající hodnota za peníze.

UV filtr NANO-X MRC je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 58 mm.

Filtr je vhodný pro fotoaparáty m.in, které mají následující modely objektivů:

Nikon:

  • AF-S DX NIKKOR 55–300 mm f/4,5–5,6G ED VR
  • AF-S NIKKOR 50 mm f/1,4G
  • NIKKOR AF-S 50 mm f/1,8G

Kánon:

  • EF-S 18–55mm f / 3,5–5,6 STM
  • EF-S 18–55mm f/3.5–5.6 II
  • EF 24mm f/2,8 USM
  • Objektiv EF 28 mm f/1,8 USM
  • EF 28mm f/2.8 USM
  • EF 50mm f/1,4 USM
  • EF 85mm f/1,8 USM
  • TS-E 90mm f/2.8
  • EF 100mm f/2 USM
  • EF 100mm f/2.8 Macro USM
  • EF-S 55–250mm f/4–5.6
  • EF 70–300 mm f / 4–5,6 USM
  • EF 70–300 mm f / 4,5–5,6 DO USM
  • EF 75–300 mm f / 4–5,6 III
  • EF 75–300mm f/4–5.6 III USM

Olympus:

  • M.ZUIKO DIGITAL ED 40–150mm 1:4.0–5.6 R
  • M.ZUIKO DIGITAL ED 14–150mm 1:4.0–5.6
  • M.ZUIKO DIGITAL ED 75mm 1:1.8
  • M.ZUIKO DIGITAL ED 75–300mm 1:4.8–6.7
  • M.ZUIKO DIGITAL ED 75–300mm 1:4.8–6.7 II
  • ZUIKO DIGITAL ED 70–300 mm 1: 4,0–5,6

Pentax:

  • SMC Pentax-DA * 55mm F1.4 SDM
  • SMC Pentax-DA 55–300mm F4–5,8 ED
  • SMC Pentax-DA L 55–300mm F4–5,8 ED

Sigma:

  • 70–300 F4–5,6 DG MAKRO
  • 70–300 F4–5,6 APO DG MACRO

Panasonic:

  • LUMIX GX VARIO 12–35mm / F2,8 ASPH. Objektiv

N156BGE-LB1 A3, N156BGE-LA1 C1, N156BGE-L31 C2, N156BGE-L41 C1, N156BGE-L41 C2, N156BGE-L31 C1, N156B6-L0D C1, N156BGE-LB1 C2, N156BGE-L31 B1, N156BGE-L41 C4, N156BGE-LB1 C1, N156BGE-L41 C3

  • 18–55mm F 3,5–5,6 OIS Objektiv S1855SB

SPECIFIKACE FILTRU:

  • Vyrobeno z kvalitního japonského optického skla
  • NANO-X MRC – Nano-reflexní a ochranné vrstvy
  • Nemění barvu záběru - je zcela neutrální
  • Super tenký a lehký hliníkový rám typu SLIM o tloušťce pouhých 3,3 mm
  • Titanový povlak
  • Žádný negativní vliv na funkci systému AUTOFOCUS
  • Včetně robustního ochranného boxu na filtr
  • Filtr je opatřen povrchovou úpravou, která vyznačuje vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Skvělá ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkách
  • Filtr má povrchovou úpravu, která výrazně usnadňuje čištění filtrů a zabraňuje nadměrnému přitahování prachu, pylů a jiných nečistot

Včetně:

  • 1× filtr
  • 1× pevný, pevný obal zabraňující poškrábání, poškození a usnadňující transport filtru

Příklad použití filtru K&F CONCEPT NANO-X MRC

POZOR! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další příslušenství uvedené na fotografiích slouží pouze jako náhled a nejsou předmětem prodeje.

Produkt z výroby nový, v originálním balení.


Kód zboží (SBkod): SB8553