UV ultrafialový filtr NANO-X MRC

Ultra-nízký odraz

Velikost filtru: 52 mm

FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITY

URČENÝ PRO PROFESIONÁLY

FILTR S INOVATIVNÍMI NANO-POVLAKY

• Velmi nízká odrazivost 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnost
• Nová technologie titanového lakování (titanový povlak) účinně eliminuje možné zežloutnutí obrazu
• Filtr zabraňuje oslnění a zvýraznění a zajišťuje bezchybnou ostrost obrazu
• Ultra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
• 28 antireflexních a ochranných nanovrstv
• Super nízký profil typu SLIM (pouze 3,3 mm silný)
• Prsten z galvanicky černěného hliníku
• Včetně pevného obalu pro uložení filtru

Výrobek společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr kvality ve výrobě fotografických filtrů

MODEL : KF01.2461 / 52 mm NANO X UV Ultra Low Reflection

Společnost K&F CONCEPT představuje kvalitní profesionální UV filtry. Jedná o špičkové filtry, které kvalitou zpracování a stupněm pokročilosti jen málo vyrovnají.

Filtr má několik desítek nanovrstv, které jsou nanášeny vrstvením na optické blány.

UV filtr – UV filtr absorbuje ultrafialové záření, čímž odřízne záření, které v největší intenzitě vyskytuje v podmínkách, kde je vzduch mimořádně průhledný (zejména na horách a u moře), a které na fotografii vytváří efekt mlhy.

UV filtr NANO-X MRC nejenže vylepšuje kvalitu fotografií, ale je také skvělou ochranou objektivu před všemi druhy pylů, mastnoty, prachem a mechanickým poškozením.

Vlastnosti filtru K&F UV NANO-X MRC:

• Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a je více než 99,9%
• Filtr má speciální nanovrstvy pro výrazné snížení oslnění a zlepšení pořízených snímků.
• Filtr je také potažen povlaky, které vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povrchová úprava výrazně usnadňuje čištění filtrů a zabraňuje nadměrnému přitahování prachu, pylů a jiných nečistot.
• Vynikající hodnota za peníze.

UV filtr NANO-X MRC je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 52 mm.

Filtr je vhodný pro fotoaparáty m.in, které mají následující modely objektivů:

Kánon:

• EF-M 18–55mm f/3.5–5.6 STM
• EF 40mm f / 2,8 STM
• EF 50mm f/1.8 II
• Kompaktní makro EF 50 mm f/2,5
• Objektiv EF-S 60 mm f2,8 Macro USM
• Objektiv EF-S 60 mm f2,8 Macro USM
• EF 135 mm f/2,8 (s Softfocus)

Nikon:

• 18–55 mm f/3,5–5,6G AF-S VR DX NIKKOR
• 18–55 mm f/3,5–5,6GII AF-S DX NIKKOR
• 55–200 mm f/4–5,6 AF-S VR DX NIKKOR
• 55–200 mm f/4–5,6G ED AF-S DX NIKKOR
• 24mm f/2.8D AF NIKKOR
• 35 mm f/2D AF NIKKOR
• 50 mm f/1,8D AF NIKKOR
• 50 mm f/1,4D AF NIKKOR
• AF-S DX 35 mm f/1,8G NIKKOR
• AF-S DX Micro 85 mm f/3,5G ED VR NIKKOR
• AF-S DX Micro 40 mm f/2,8G NIKKOR
• AS-S 24mm f/2,8D
• 1 NIKKOR VR 6,7?13 mm f/3,5?5,6

Pentax:

• SMC Pentax-DA 18–55mm F3,5–5,6 AL
• SMC Pentax-DA L 18–55mm F3,5–5,6 AL
• SMC Pentax-DA 18–55mm F3,5–5,6 AL II
• Objektiv SMC Pentax-DA 18–55mm F3,5–5,6 AL WR
• Objektiv SMC Pentax-DA 50mm F1.8
• SMC Pentax-DA 50–200mm F4–5,6 ED

Olympus:

• M.ZUIKO DIGITAL ED 9–18mm 1:4.0–5.6
• M.ZUIKO DIGITAL ED 12–50mm 1:3.5–6.3 EZ
• ZUIKO DIGITAL 35mm Makro 1:3.5
• ZUIKO DIGITAL ED 50mm Makro 1:2.0

Panasonic:

• LUMIX G Vario 14–45mm / F3,5–5,6 ASPH. / MEGA O.I.S
• Objektiv LUMIX GX Vario 45–200 mm f/4–5,6 MEGA OIS
• LUMIX G Vario 45–150mm/F4.0–5.6 ASPH. /MEGA O.I.S.

Fuji:

• XF18mm F2 R
• XF35mm F1.4 R

Tamron :

• AF 55–200mm F/4–5.6 Di II LD Makro

N156BGE-LB1 A3, N156BGE-LA1 C1, N156BGE-L31 C2, N156BGE-L41 C1, N156BGE-L41 C2, N156BGE-L31 C1, N156B6-L0D C1, N156BGE-LB1 C2, N156BGE-L31 B1, N156BGE-L41 C4, N156BGE-LB1 C1, N156BGE-L41 C3

• NNX 50–200 mm 4,0–5,6 ED OIS T50200SB

SPECIFIKACE FILTRU:

• Vyrobeno z kvalitního japonského optického skla
• NANO-X MRC – Nano-reflexní a ochranné vrstvy
• Nemění barvu záběru - je zcela neutrální
• Super tenký a lehký hliníkový rám typu SLIM o tloušťce pouhých 3,3 mm
• Titanový povlak
• Žádný negativní vliv na funkci systému AUTOFOCUS
• Včetně robustního ochranného boxu na filtr

• Filtr je opatřen povrchovou úpravou, která vyznačuje vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Skvělá ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkách
• Filtr má povrchovou úpravu, která výrazně usnadňuje čištění filtrů a zabraňuje nadměrnému přitahování prachu, pylů a jiných nečistot

Včetně:

• 1× filtr
• 1× pevný, pevný obal zabraňující poškrábání, poškození a usnadňující transport filtru

Příklad použití filtru K&F CONCEPT NANO-X MRC

POZOR! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další příslušenství uvedené na fotografiích slouží pouze jako náhled a nejsou předmětem prodeje.

Produkt z výroby nový, v originálním balení.