UV ultrafialový filtr NANO-X MRC

Ultra-nízký odraz

Velikost filtru: 43 mm

FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITY

URČENÝ PRO PROFESIONÁLY

FILTR S INOVATIVNÍMI NANO-POVLAKY

• Velmi nízká odrazivost 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnost
• Nová technologie titanového lakování (titanový povlak) účinně eliminuje možné zežloutnutí obrazu
• Filtr zabraňuje oslnění a zvýraznění a zajišťuje bezchybnou ostrost obrazu
• Ultra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
• 28 antireflexních a ochranných nanovrstv
• Super nízký profil typu SLIM (pouze 3,3 mm silný)
• Prsten z galvanicky černěného hliníku
• Včetně pevného obalu pro uložení filtru

Výrobek společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr kvality ve výrobě fotografických filtrů

MODEL : KF01.2458 / 43 mm NANO X UV Ultra Low Reflection

Společnost K&F CONCEPT představuje kvalitní profesionální UV filtry. Jedná o špičkové filtry, které kvalitou zpracování a stupněm pokročilosti jen málo vyrovnají.

Filtr má několik desítek nanovrstv, které jsou nanášeny vrstvením na optické blány.

UV filtr – UV filtr absorbuje ultrafialové záření, čímž odřízne záření, které v největší intenzitě vyskytuje v podmínkách, kde je vzduch mimořádně průhledný (zejména na horách a u moře), a které na fotografii vytváří efekt mlhy.

UV filtr NANO-X MRC nejenže vylepšuje kvalitu fotografií, ale je také skvělou ochranou objektivu před všemi druhy pylů, mastnoty, prachem a mechanickým poškozením.

Vlastnosti filtru K&F UV NANO-X MRC:

• Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a je více než 99,9%
• Filtr má speciální nanovrstvy pro výrazné snížení oslnění a zlepšení pořízených snímků.
• Filtr je také potažen povlaky, které vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povrchová úprava výrazně usnadňuje čištění filtrů a zabraňuje nadměrnému přitahování prachu, pylů a jiných nečistot.
• Vynikající hodnota za peníze.

UV filtr NANO-X MRC je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 43 mm.

Filtr je vhodný pro fotoaparáty m.in, které mají následující modely objektivů:

Kánon

• EF-M 22MM 2.0 STM
• RF 50mm F1.8 STM
• EF-M 32 mm f/1,4 STM
• EF-M 28mm f/3.5 Macro STM

Fujifilm

• XF 35 mm f/2.0 R WR

SPECIFIKACE FILTRU:

• Vyrobeno z kvalitního japonského optického skla
• NANO-X MRC – Nano-reflexní a ochranné vrstvy
• Nemění barvu záběru - je zcela neutrální
• Super tenký a lehký hliníkový rám typu SLIM o tloušťce pouhých 3,3 mm
• Titanový povlak
• Žádný negativní vliv na funkci systému AUTOFOCUS
• Včetně robustního ochranného boxu na filtr

• Filtr je opatřen povrchovou úpravou, která vyznačuje vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Skvělá ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkách
• Filtr má povrchovou úpravu, která výrazně usnadňuje čištění filtrů a zabraňuje nadměrnému přitahování prachu, pylů a jiných nečistot

Včetně:

• 1× filtr
• 1× pevný, pevný obal zabraňující poškrábání, poškození a usnadňující transport filtru

Příklad použití filtru K&F CONCEPT NANO-X MRC

POZOR! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další příslušenství uvedené na fotografiích slouží pouze jako náhled a nejsou předmětem prodeje.

Produkt z výroby nový, v originálním balení.