K&F Concept UV FILTR Ultra Low Reflection K&F CONCEPT NANO-X MRC 40,5 mm 40,5 mm
Popis
UV ultrafialový filtr NANO-X MRC
Ultra-nízký odraz
Velikost filtru: 40.5 mm
FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITY
URČENÝ PRO PROFESIONÁLY
FILTR S INOVATIVNÍMI NANO-POVLAKY
- Velmi nízká odrazivost 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnost
- Nová technologie titanového lakování (titanový povlak) účinně eliminuje možné zežloutnutí obrazu
- Filtr zabraňuje oslnění a zvýraznění a zajišťuje bezchybnou ostrost obrazu
- Ultra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
- 28 antireflexních a ochranných nanovrstv
- Super nízký profil typu SLIM (pouze 3,3 mm silný)
- Prsten z galvanicky černěného hliníku
- Včetně pevného obalu pro uložení filtru
Výrobek společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr kvality ve výrobě fotografických filtrů
MODEL : KF01.2457 / 40,5 mm NANO X UV Ultra Low Reflection
Společnost K&F CONCEPT představuje kvalitní profesionální UV filtry. Jedná o špičkové filtry, které kvalitou zpracování a stupněm pokročilosti jen málo vyrovnají.
Filtr má několik desítek nanovrstv, které jsou nanášeny vrstvením na optické blány.
UV filtr – UV filtr absorbuje ultrafialové záření, čímž odřízne záření, které v největší intenzitě vyskytuje v podmínkách, kde je vzduch mimořádně průhledný (zejména na horách a u moře), a které na fotografii vytváří efekt mlhy.
UV filtr NANO-X MRC nejenže vylepšuje kvalitu fotografií, ale je také skvělou ochranou objektivu před všemi druhy pylů, mastnoty, prachem a mechanickým poškozením.
Vlastnosti filtru K&F UV NANO-X MRC:
- Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a je více než 99,9%
- Filtr má speciální nanovrstvy pro výrazné snížení oslnění a zlepšení pořízených snímků.
- Filtr je také potažen povlaky, které vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povrchová úprava výrazně usnadňuje čištění filtrů a zabraňuje nadměrnému přitahování prachu, pylů a jiných nečistot.
- Vynikající hodnota za peníze.
UV filtr NANO-X MRC je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 40.5 mm.
Filtr je vhodný pro následující fotoaparáty m.in:
- Nikon 1: V1 / J1 / J2 / V2 / S1 / S2 / AW1 / V3 / J3 / J4 / V4 s objektivem NIKKOR 10? 30 mm 1:3,5–5,6 VR nebo NIKKOR 11–27,5mm 1:3.5–5.6
- Pentax: Q / Q1 / Q10 / Q7 / Q-S1 s objektivem SMC 1:1.9 8.5mm AL [IF] nebo SMC 1:2.8–4.5 5–15mm ED AF [IL]
- Olympus PEN: E-P1 / E-P2 / E-P3 / E-PL1 / E-PL2 / E-PL3 s objektivem 14–42mm 1:3.5–5.6 L ED (fi 40,5mm)
- Samsung: NX300 / NX30 / NX3000 / NX10 / NX20 / NX1000 / NX11 / NX1100 / NX100 / NX2000 s objektivem
- 1: 3.5–5.6 20–50mm II ED
- Sony A5100 / A6000 / A5000 / NEX-5R / NEX-5T / NEX-3N / NEX-6 s objektivem E 3.5–5.6 / PZ 16–50 OSS
SPECIFIKACE FILTRU:
- Vyrobeno z kvalitního japonského optického skla
- NANO-X MRC – Nano-reflexní a ochranné vrstvy
- Nemění barvu záběru - je zcela neutrální
- Super tenký a lehký hliníkový rám typu SLIM o tloušťce pouhých 3,3 mm
- Titanový povlak
- Žádný negativní vliv na funkci systému AUTOFOCUS
- Včetně robustního ochranného boxu na filtr
- Filtr je opatřen povrchovou úpravou, která vyznačuje vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Skvělá ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkách
- Filtr má povrchovou úpravu, která výrazně usnadňuje čištění filtrů a zabraňuje nadměrnému přitahování prachu, pylů a jiných nečistot
Včetně:
- 1× filtr
- 1× pevný, pevný obal zabraňující poškrábání, poškození a usnadňující transport filtru
Příklad použití filtru K&F CONCEPT NANO-X MRC
POZOR! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další příslušenství uvedené na fotografiích slouží pouze jako náhled a nejsou předmětem prodeje.
Produkt z výroby nový, v originálním balení.
Kód zboží (SBkod): SB8547