UV ultrafialový filtr NANO-X MRC

Ultra-nízký odraz

Velikost filtru: 37 mm

FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITY

URČENÝ PRO PROFESIONÁLY

FILTR S INOVATIVNÍMI NANO-POVLAKY

• Velmi nízká odrazivost 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnost
• Nová technologie titanového lakování (titanový povlak) účinně eliminuje možné zežloutnutí obrazu
• Filtr zabraňuje oslnění a zvýraznění a zajišťuje bezchybnou ostrost obrazu
• Ultra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
• 28 antireflexních a ochranných nanovrstv
• Super nízký profil typu SLIM (pouze 3,3 mm silný)
• Prsten z galvanicky černěného hliníku
• Včetně pevného obalu pro uložení filtru

Výrobek společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr kvality ve výrobě fotografických filtrů

MODEL : KF01.2456 / 37 mm NANO X UV Ultra Low Reflection

Společnost K&F CONCEPT představuje kvalitní profesionální UV filtry. Jedná o špičkové filtry, které kvalitou zpracování a stupněm pokročilosti jen málo vyrovnají.

Filtr má několik desítek nanovrstv, které jsou nanášeny vrstvením na optické blány.

UV filtr – UV filtr absorbuje ultrafialové záření, čímž odřízne záření, které v největší intenzitě vyskytuje v podmínkách, kde je vzduch mimořádně průhledný (zejména na horách a u moře), a které na fotografii vytváří efekt mlhy.

UV filtr NANO-X MRC nejenže vylepšuje kvalitu fotografií, ale je také skvělou ochranou objektivu před všemi druhy pylů, mastnoty, prachem a mechanickým poškozením.

Vlastnosti filtru K&F UV NANO-X MRC:

• Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a je více než 99,9%
• Filtr má speciální nanovrstvy pro výrazné snížení oslnění a zlepšení pořízených snímků.
• Filtr je také potažen povlaky, které vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povrchová úprava výrazně usnadňuje čištění filtrů a zabraňuje nadměrnému přitahování prachu, pylů a jiných nečistot.
• Vynikající hodnota za peníze.

UV filtr NANO-X MRC je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 37mm.

Filtr je vhodný pro následující fotoaparáty m.in:

Olympus PEN : E- PL 9 / E- PL 8 / F / E- PL 6 / E- PL 7 / E-P5 / E-PM2 / E- PL 5 / E-P3 / E- PL 3 / E-PM1 s 14–42mm 1:3,5–5,6 L ED objektivem (fi 37mm)

SPECIFIKACE FILTRU:

• Vyrobeno z kvalitního japonského optického skla
• NANO-X MRC – Nano-reflexní a ochranné vrstvy
• Nemění barvu záběru - je zcela neutrální
• Super tenký a lehký hliníkový rám typu SLIM o tloušťce pouhých 3,3 mm
• Titanový povlak
• Žádný negativní vliv na funkci systému AUTOFOCUS
• Včetně robustního ochranného boxu na filtr

• Filtr je opatřen povrchovou úpravou, která vyznačuje vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Skvělá ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkách
• Filtr má povrchovou úpravu, která výrazně usnadňuje čištění filtrů a zabraňuje nadměrnému přitahování prachu, pylů a jiných nečistot

Včetně:

• 1× filtr
• 1× pevný, pevný obal zabraňující poškrábání, poškození a usnadňující transport filtru

Příklad použití filtru K&F CONCEPT NANO-X MRC

POZOR! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další příslušenství uvedené na fotografiích slouží pouze jako náhled a nejsou předmětem prodeje.

Produkt z výroby nový, v originálním balení.