Polarizační filtr CPL NANO-X

Ultra-nízký odraz

Velikost filtru: 72 mm

FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITY

URČENÝ PRO PROFESIONÁLY

FILTR S INOVATIVNÍMI NANO-POVLAKY

• Velmi nízká odrazivost 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnost
• Nová technologie titanového pokovování účinně eliminuje případné zežloutnutí obrazu
• Ultra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
• 28 antireflexních a ochranných nanovrstv
• Super nízký profil typu SLIM (tloušťka pouhých 5.3 mm)
• Velmi pevné a odolné tělo z hliníkové slitiny hořčíku
• Včetně pevného obalu pro uložení filtru

Výrobek společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr kvality ve výrobě fotografických filtrů.

MODEL : KF01.2479 / 72 mm Nano X CPL Ultra Low Reflection

Společnost K&F CONCEPT představuje kvalitní profesionální polarizační CPL filtry. Jedná o špičkové filtry, které kvalitou zpracování a stupněm pokročilosti jen málo vyrovnají.

Filtr má několik desítek nanovrstv, které jsou nanášeny vrstvením na optické blány.

Polarizační filtr je ideálním doplňkem zejména pro krajinářské fotografie.

Polarizační filtr zvyšuje kontrast snímků a sytost barev.

Filtr CPL eliminuje odlesky a odrazy nejen ze skleněných, ale i kovových povrchů. Díky tomu je možné provádět např. fotografií přes sklo.

Polarizační filtr CPL propouští pouze světlo s lineární polarizací ve zvoleném směru. Filtr tak částečně pohlcuje rozptýlené světlo v atmosféře, což je patrné zejména při fotografování oblohy, která stává tmavší, a zároveň zachovává bílou barvu mraků.

CPL filtr také umožňuje výrazné zlepšení sytosti barev neprůhledných povrchů (např. zelené rostliny) a redukci odrazů od průhledných povrchů (např. tabulku vody nebo skla).

Vlastnosti filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC:

• Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a je více než 99,9%
• Filtr má speciální nanovrstvy pro výrazné snížení oslnění a zlepšení pořízených snímků.
• Filtr je také potažen povlaky, které vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povrchová úprava výrazně usnadňuje čištění filtrů a zabraňuje nadměrnému přitahování prachu, pylů a jiných nečistot.
• Vynikající hodnota za peníze.

Filtr je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 72mm.

Filtr je vhodný pro fotoaparáty m.in, které mají následující modely objektivů:

Kánon:

• EF-S 15–85mm f / 3,5–5,6 USM
• EF-S 18–200mm f/3.5–5.6
• EF 28–135 mm f / 3,5–5,6 USM
• EF 20mm f / 2,8 USM
• EF 35mm f / 1,4L USM
• TS-E 45mm f/2.8
• EF 50mm f / 1,2L USM
• EF 85mm f/1.2L II USM
• Objektiv EF 135mm f/2L USM
• EF 180mm f/3,5L Macro USM
• EF 200mm f/2.8L II USM

Nikon:

• AF-S DX NIKKOR 18–200 mm f/3,5–5,6 G ED VR II
• 18–200 mm f/3,5–5,6G IF-ED AF-S VR DX NIKKOR
• 24–85 mm f/2,8–4D IF AF NIKKOR
• AF-S NIKKOR 24–85 mm f/3,5–4,5G ED VR
• 24–85 mm f/2,8–4D IF AF NIKKOR
• 180mm f/2,8D ED-IF AF NIKKOR
• 1 NIKKOR VR 10?100 mm f/4,5?5,6 PD-ZOOM

Sony:

• SAL-1118
• SAL-1650
• SAL-50F14Z
• SAL-20F28
• SAL-24F20Z
• SAL-135F28
• SAL-85F14Z

Olympus:

• ZUIKO DIGITAL ED 9–18mm 1: 4,0–5,6
• ZUIKO DIGITAL 11–22mm 1: 2,8–3,5
• ZUIKO DIGITAL ED 12–60mm 1:2.8–4.0 SWD

Sigma:

• 17–70 F2.8–4 DC MACRO OS HSM C
• 18–200 F3.5–6.3 DC OSOB
• 18–250 F3.5–6.3 DC V HSM
• 150 F2.8 APO EX DG OS HSM MAKRO

Tamron:

• AF 17–50mm F / 2,8 XR Di II VC LD Asférický
• AF 18–270 mm F/3,5–6,3 Di II VC LD asférický
• AF 180mm F/3.5 SP Di LD Asférický [IF] Makro 1:1

Panasonic:

• Panasonic 14–50 mm f / 2,8–3,5 Vario-Elmarit asférický MEGA OIS
• Panasonic 14–150mm f/3.5–5.6 Vario-Elmar MEGA O.I.S.

SPECIFIKACE FILTRU:

• Vyrobeno z kvalitního japonského optického skla
• Oboustranně potažené 28vrstvým povlakem (NANO-X) optické sklo
• Ochranný hydrofobní, proti oleji, proti prachu, proti znečištění, odolný proti poškrábání.
• Nemění barvu záběru - je zcela neutrální
• Super tenký a lehký hliníkový rám typu SLIM o tloušťce pouhých 5.3 mm
• Žádný negativní vliv na funkci systému AUTOFOCUS
• Včetně robustního ochranného boxu na filtr

• Filtr má povrchovou úpravu, která výrazně usnadňuje čištění filtrů a zabraňuje nadměrnému přitahování prachu, pylů a jiných nečistot
• Filtr je opatřen povrchovou úpravou, která vyznačuje vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Skvělá ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkách

Včetně:

• 1× filtr
• 1× pevný, pevný obal zabraňující poškrábání, poškození a usnadňující transport filtru

Příklad použití filtru K&F CONCEPT CPL NANO-X

POZOR! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další příslušenství uvedené na fotografiích slouží pouze jako náhled a nejsou předmětem prodeje.

Produkt z výroby nový, v originálním balení.