Polarizační filtr CPL NANO-X PRO MRC

Velikost filtru: 40.5 mm

TOP KVALITNÍ FILTR

VĚNOVANO PRO PROFESIONÁLY

FILTR S INOVATIVNÍMI NANO-POVLAKY

• HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
• NANO-X PRO MRC – Antireflexní a ochranné nano-povlaky
• Super nízký SLIM profil (tloušťka pouze 5 mm)
• Velmi pevné a odolné pouzdro z hliníku Magnalium
• Dodáváno s pevným pouzdrem pro uložení filtru

MODEL: KF01.989 / 40.5 mm Nano X CPL

Produkt společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr kvality ve výrobě fotografických filtrů.

K&F CONCEPT představuje vynikající kvalitu profesionálních polarizačních filtrů CPL . Jedná se o filtry na horní polici, jen málo filtrů se jim vyrovná kvalitou a propracovaností.

Filtr má několik nano povlaků navrstvených na optickém skle.

Polarizační filtr je perfektním doplňkem zejména pro krajinářské fotografie.

Polarizační filtr zvyšuje kontrast fotografií a sytost barev.

CPL filtr eliminuje odlesky a odrazy nejen od skleněných, ale i kovových povrchů. Díky tomu je možné pořizovat například fotografie přes sklo.

Polarizační filtr CPL propouští pouze lineárně polarizované světlo ve zvoleném směru. Díky tomu filtr částečně pohltí světlo rozptýlené v atmosféře, což je patrné zejména při fotografování oblohy, která se stává tmavší, a přitom zachovává bílou barvu mraků.

CPL filtr také umožňuje výrazně zlepšit sytost barev neprůhledných povrchů (např. zelené rostliny) a snížit odrazy od průhledných povrchů (např. voda nebo sklo).

Vlastnosti filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC:

• Vyrobeno z nejkvalitnějšího optického skla, díky kterému je propustnost světla mnohem vyšší a činí přes 99,9 %
• Filtr má speciální nanovrstvy, které výrazně snižují odlesky a vylepšují vaše fotografie.
• Filtr je také pokryt povlaky, které jsou vysoce odolné proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky výrazně usnadňují čištění filtru a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a dalších typů nečistot.
• Skvělá hodnota za peníze.

Filtr CPL NANO-X PRO MRC je určen pro všechny fotoaparáty a videokamery s průměrem objektivu 40.5 mm.

• Nikon 1: V1 / J1 / J2 / V2 / S1 / S2 / AW1 / V3 / J3 / J4 / V4 z obiektywem NIKKOR 10?30 mm 1:3,5?5,6 VR lub NIKKOR 11–27,5mm 1:3.5–5.6
• Pentax: Q / Q1 / Q10 / Q7 / Q-S1 z obiektywem SMC 1:1.9 8.5mm AL [IF] lub SMC 1:2.8–4.5 5–15mm ED AF [IL]
• Olympus PEN: E-P1 / E-P2 / E-P3 / E-PL1 / E-PL2 / E-PL3 z obiektywem 14–42mm 1:3.5–5.6 L ED (fi 40,5mm)
• Samsung: NX300 / NX30 / NX3000 / NX10 / NX20 / NX1000 / NX11 / NX1100 / NX100 / NX2000 z obiektywem
• 1: 3.5–5.6 20–50mm II ED
• Sony A5100 / A6000 / A5000 / NEX-5R / NEX-5T / NEX-3N / NEX-6 z obiektywem E 3.5–5.6/PZ 16–50 OSS

SPECIFIKACE FILTRU:

• Vyrobeno z nejkvalitnějšího japonského optického skla
• Oboustranné 18vrstvé optické sklo s povlakem (NANO-X PRO MRC).
• Ochranný povlak hydrofobní, proti oleji, proti prachu, proti nečistotám, proti poškrábání.
• Nemění barvu rámu – je zcela neutrální
• Super tenký a lehký, hliníkový SLIM rám o tloušťce pouhých 5 mm
• Velmi pevné a odolné pouzdro z hliníku Magnalium
• Žádný negativní dopad na provoz systému AUTOFOCUS
• Včetně pevného ochranného boxu na filtr

Super tenký a lehký, hliníkový SLIM rám o tloušťce pouhých 5 mm

Filtr je pokryt povlaky, které jsou vysoce odolné proti poškrábání a mechanickému poškození. Poskytují vynikající ochranu filtru i v těch nejtěžších podmínkách

Filtr má povlaky, které výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a dalších typů nečistot

Příklad použití filtru K&F CONCEPT CPL NANO-X PRO MRC

Pozornost! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další příslušenství zobrazené na fotografiích jsou pouze orientační a nejsou na prodej.