Polarizační filtr CPL NANO-X

Ultra-nízký odraz

Velikost filtru: 58 mm

FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITY

URČENÝ PRO PROFESIONÁLY

FILTR S INOVATIVNÍMI NANO POVLAKY

• Velmi nízký koeficient odrazu 0,1%, eliminuje 99,9% polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnost
• Nová technologie titanového povrstvení efektivně eliminuje případné zežloutnutí obrazu
• Ultra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
• 28 Nano antireflexních a ochranných vrstev
• Super nízký profil typu SLIM (pouze 5.3 mm silný)
• Velmi pevné a odolné pouzdro z hliníkovo-hořčíkové slitiny
• Včetně pevného obalu pro uložení filtru

Produkt společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr v kvalitě ve výrobě fotografických filtrů.

MODEL : KF01.2476 / 58 mm Nano X CPL Ultra Low Reflection

Společnost K&F CONCEPT představuje kvalitní a profesionální polarizační CPL filtry. Jedná o špičkové filtry, které kvalitou zpracování a stupněm pokročilosti jen málo vyrovnají.

Filtr má až několik desítek nano-povlaků nanesených vrstveně na optické šlo.

Polarizační filtr je ideálním doplňkem zejména pro krajinářskou fotografii.

Polarizační filtr zvyšuje kontrast fotografií a sytost barev.

CPL filtr eliminuje odlesky a odrazy nejen ze skleněných, ale i metalických povrchů. Díky tomu je možné provádět např. fotografií přes sklo.

Polarizační filtr CPL propouští pouze světlo s lineární polarizací ve zvoleném směru. V důsledku toho filtr částečně pohlcuje rozptýlené světlo v atmosféře, což je patrné zejména u fotografování oblohy, která stává tmavší, při zachování bílé barvy mraků.

CPL filtr také umožňuje výrazné zlepšení sytosti barev neprůhledných povrchů (např. zeleně rostlin) a redukci odrazů od průhledných povrchů (např. vodní plochy nebo skla).

Vlastnosti filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC:

• Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky tomu je přenos světla mnohem vyšší a je více než 99,9%
• Filtr má speciální nano-povlaky pro výrazné snížení odlesků a zlepšení pořízených snímků.
• Filtr je také pokryt povlaky, které vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky rozhodně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistot.
• Vynikající hodnota za peníze.

Filtr je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 58 mm.

Filtr je vhodný m.in pro fotoaparáty, které mají následující modely objektivů:

Nikon:

• AF-S DX NIKKOR 55–300 mm f/4,5–5,6G ED VR
• AF-S NIKKOR 50 mm f/1,4G
• NIKKOR AF-S 50 mm f/1,8G

Kánon:

• EF-S 18–55mm f / 3,5–5,6 STM
• EF-S 18–55mm f/3.5–5.6 II
• EF 24mm f/2,8 USM
• Objektiv EF 28 mm f/1,8 USM
• EF 28mm f/2.8 USM
• EF 50mm f/1,4 USM
• EF 85mm f/1,8 USM
• TS-E 90mm f/2.8
• EF 100mm f/2 USM
• EF 100mm f/2.8 Macro USM
• EF-S 55–250mm f/4–5.6
• EF 70–300 mm f / 4–5,6 USM
• EF 70–300 mm f / 4,5–5,6 DO USM
• EF 75–300 mm f / 4–5,6 III
• EF 75–300mm f/4–5.6 III USM

Olympus:

• M.ZUIKO DIGITAL ED 40–150mm 1:4.0–5.6 R
• M.ZUIKO DIGITAL ED 14–150mm 1:4.0–5.6
• M.ZUIKO DIGITAL ED 75mm 1:1.8
• M.ZUIKO DIGITAL ED 75–300mm 1:4.8–6.7
• M.ZUIKO DIGITAL ED 75–300mm 1:4.8–6.7 II
• ZUIKO DIGITAL ED 70–300 mm 1: 4,0–5,6

Pentax:

• SMC Pentax-DA * 55mm F1.4 SDM
• SMC Pentax-DA 55–300mm F4–5,8 ED
• SMC Pentax-DA L 55–300mm F4–5,8 ED

Sigma:

• 70–300 F4–5,6 DG MAKRO
• 70–300 F4–5,6 APO DG MACRO

Panasonic:

• LUMIX GX VARIO 12–35mm / F2,8 ASPH. Objektiv

N156BGE-LB1 A3, N156BGE-LA1 C1, N156BGE-L31 C2, N156BGE-L41 C1, N156BGE-L41 C2, N156BGE-L31 C1, N156B6-L0D C1, N156BGE-LB1 C2, N156BGE-L31 B1, N156BGE-L41 C4, N156BGE-LB1 C1, N156BGE-L41 C3

• 18–55mm F 3,5–5,6 OIS Objektiv S1855SB

SPECIFIKACE FILTRU:

• Vyrobeno z kvalitního japonského optického skla
• Oboustranně potažené 28vrstvým povlakem (NANO-X) optické sklo
• Ochranný hydrofobní, protiolejový, protiprachový, proti nečistotám, odolný proti poškrábání.
• Nemění barvu záběru - je zcela neutrální
• Super tenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIM o tloušťce pouhých 5.3 mm
• Žádný negativní vliv na provoz systému AUTOFOCUS
• Včetně robustního ochranného boxu na filtr

• Filtr má povlaky, které rozhodně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistot
• Filtr je opatřen povrchovou úpravou, která vyznačuje vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Státní vynikající ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkách

Včetně:

• 1× filtr
• 1× pevný, pevný obal proti poškrábání, poškození a pro snadnou přepravu filtru

Příklad použití filtru K&F CONCEPT CPL NANO-X

POZOR! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další příslušenství uvedené na fotografiích slouží pouze jako náhled a nejsou předmětem prodeje.

Produkt z výroby nový, v originálním balení.

Kód výrobku (SB kód): SB8646