K&F Concept Polarizační CPL FILTR K&F CONCEPT NANO-X Ultra-Low Reflection 62mm 62 mm
Popis
Polarizační filtr CPL NANO-X
Ultra-nízký odraz
Velikost filtru: 62 mm
FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITY
URČENÝ PRO PROFESIONÁLY
FILTR S INOVATIVNÍMI NANO POVLAKY
- Velmi nízký koeficient odrazu 0,1%, eliminuje 99,9% polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnost
- Nová technologie titanového povrstvení efektivně eliminuje případné zežloutnutí obrazu
- Ultra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
- 28 Nano antireflexních a ochranných vrstev
- Super nízký profil typu SLIM (pouze 5.3 mm silný)
- Velmi pevné a odolné pouzdro z hliníkovo-hořčíkové slitiny
- Včetně pevného obalu pro uložení filtru
Produkt společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr v kvalitě ve výrobě fotografických filtrů.
MODEL : KF01.2477 / 62 mm Nano X CPL Ultra Low Reflection
Společnost K&F CONCEPT představuje kvalitní a profesionální polarizační CPL filtry. Jedná o špičkové filtry, které kvalitou zpracování a stupněm pokročilosti jen málo vyrovnají.
Filtr má až několik desítek nano-povlaků nanesených vrstveně na optické šlo.
Polarizační filtr je ideálním doplňkem zejména pro krajinářskou fotografii.
Polarizační filtr zvyšuje kontrast fotografií a sytost barev.
CPL filtr eliminuje odlesky a odrazy nejen ze skleněných, ale i metalických povrchů. Díky tomu je možné provádět např. fotografií přes sklo.
Polarizační filtr CPL propouští pouze světlo s lineární polarizací ve zvoleném směru. V důsledku toho filtr částečně pohlcuje rozptýlené světlo v atmosféře, což je patrné zejména u fotografování oblohy, která stává tmavší, při zachování bílé barvy mraků.
CPL filtr také umožňuje výrazné zlepšení sytosti barev neprůhledných povrchů (např. zeleně rostlin) a redukci odrazů od průhledných povrchů (např. vodní plochy nebo skla).
Vlastnosti filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC:
- Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky tomu je přenos světla mnohem vyšší a je více než 99,9%
- Filtr má speciální nano-povlaky pro výrazné snížení odlesků a zlepšení pořízených snímků.
- Filtr je také pokryt povlaky, které vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky rozhodně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistot.
- Vynikající hodnota za peníze.
Filtr je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 62 mm.
Filtr je vhodný m.in pro fotoaparáty, které mají následující modely objektivů:
Nikon:
- 20 mm f/2,8D AF NIKKOR
- 60 mm f/2,8G ED AF-S Micro NIKKOR
- 60 mm f/2,8D AF Micro NIKKOR
- 85 mm f/1.8D AF NIKKOR
- 105 mm f/2,8G AF-S VR Micro NIKKOR
- Objektiv 200 mm f/4D ED-IF AF Micro NIKKOR
Sony:
- SEL-1018
- SAL-16105
- SAL-18135
- SAL-18250
- SAL-18200
- SAL-1680Z
- SAL-55300
- SAL-70300G
Sigma:
- 30 F1.4 EX DC HSM
- 105 F2.8 APO EX DG OS HSM MAKRO
- 18–250 F3,5–6,3 DC OS HSM MACRO
- 18–250 F3,5–6,3 DC OS HSM MACRO
- 18–200 F3.5–6.3 II DC OS HSM
- 70 F2,8 EX DG MACRO
- 70–300 F4–5.6 DG OS
Pentax:
- SMC Pentax-DA 18–135mm F3.5–5.6 ED AL [IF] DC WR
- SMC Pentax-DA 18–250 mm F3,5–6,3 ED AL [IF]
- Objektiv SMC Pentax-DA 18–270mm F3,5–6,3 ED SDM
- SMC Pentax-DA* 50–135mm F2.8 ED [IF] SDM
Tamron:
- AF 18–200mm F/3.5–6.3 XR Di II LD
- AF 18–250mm F/3.5–6.3 Di II LD
- AF 18–270mm F/3.5–6.3 Di II VC PZD
- AF 28–200mm F/3.8–5.6 Asférické XR Di [IF] Makro
- AF 28–300mm F/3.5–6.3 XR Di LD Asférický [IF] Makro
- 70–300mm F 4–5,6 VC Di USD
Olympus:
- ZUIKO DIGITAL ED 18–180mm 1:3,5–6,3
Panasonic:
- Lumix G VARIO HD 14–140mm / F4,0–5,8 ASPH. / MEGA OIS objektiv
SPECIFIKACE FILTRU:
- Vyrobeno z kvalitního japonského optického skla
- Oboustranně potažené 28vrstvým povlakem (NANO-X) optické sklo
- Ochranný hydrofobní, protiolejový, protiprachový, proti nečistotám, odolný proti poškrábání.
- Nemění barvu záběru - je zcela neutrální
- Super tenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIM o tloušťce pouhých 5.3 mm
- Žádný negativní vliv na provoz systému AUTOFOCUS
- Včetně robustního ochranného boxu na filtr
- Filtr má povlaky, které rozhodně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistot
- Filtr je opatřen povrchovou úpravou, která vyznačuje vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Státní vynikající ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkách
Včetně:
- 1× filtr
- 1× pevný, pevný obal proti poškrábání, poškození a pro snadnou přepravu filtru
Příklad použití filtru K&F CONCEPT CPL NANO-X
POZOR! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další příslušenství uvedené na fotografiích slouží pouze jako náhled a nejsou předmětem prodeje.
Produkt z výroby nový, v originálním balení.
Kód výrobku (SB kód): SB8644
Kód zboží (SBkod): SB8644