Polarizační filtr CPL NANO-X

Ultra-nízký odraz

Velikost filtru: 40.5 mm

FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITY

URČENÝ PRO PROFESIONÁLY

FILTR S INOVATIVNÍMI NANO POVLAKY

• Velmi nízký koeficient odrazu 0,1%, eliminuje 99,9% polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnost
• Nová technologie titanového povrstvení efektivně eliminuje případné zežloutnutí obrazu
• Ultra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
• 28 Nano antireflexních a ochranných vrstev
• Super nízký profil typu SLIM (pouze 5.3 mm silný)
• Velmi pevné a odolné pouzdro z hliníkovo-hořčíkové slitiny
• Včetně pevného obalu pro uložení filtru

Produkt společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr v kvalitě ve výrobě fotografických filtrů.

MODEL : KF01.2470 / 40,5 mm Nano X CPL Ultra Low Reflection

Společnost K&F CONCEPT představuje kvalitní a profesionální polarizační CPL filtry. Jedná o špičkové filtry, které kvalitou zpracování a stupněm pokročilosti jen málo vyrovnají.

Filtr má až několik desítek nano-povlaků nanesených vrstveně na optické šlo.

Polarizační filtr je ideálním doplňkem zejména pro krajinářskou fotografii.

Polarizační filtr zvyšuje kontrast fotografií a sytost barev.

CPL filtr eliminuje odlesky a odrazy nejen ze skleněných, ale i metalických povrchů. Díky tomu je možné provádět např. fotografií přes sklo.

Polarizační filtr CPL propouští pouze světlo s lineární polarizací ve zvoleném směru. V důsledku toho filtr částečně pohlcuje rozptýlené světlo v atmosféře, což je patrné zejména u fotografování oblohy, která stává tmavší, při zachování bílé barvy mraků.

CPL filtr také umožňuje výrazné zlepšení sytosti barev neprůhledných povrchů (např. zeleně rostlin) a redukci odrazů od průhledných povrchů (např. vodní plochy nebo skla).

Vlastnosti filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC:

• Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky tomu je přenos světla mnohem vyšší a je více než 99,9%
• Filtr má speciální nano-povlaky pro výrazné snížení odlesků a zlepšení pořízených snímků.
• Filtr je také pokryt povlaky, které vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky rozhodně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistot.
• Vynikající hodnota za peníze.

Filtr je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 40.5 mm.

Filtr je vhodný m.in pro následující fotoaparáty:

• Nikon 1: V1 / J1 / J2 / V2 / S1 / S2 / AW1 / V3 / J3 / J4 / V4 s objektivem NIKKOR 10? 30 mm 1:3,5? 5,6 VR nebo NIKKOR 11–27,5mm 1:3.5–5.6
• Pentax: Q / Q1 / Q10 / Q7 / Q-S1 s objektivem SMC 1:1.9 8.5mm AL [IF] nebo SMC 1:2.8–4.5 5–15mm ED AF [IL]
• Olympus PEN: E-P1 / E-P2 / E-P3 / E-PL1 / E-PL2 / E-PL3 s objektivem 14–42mm 1:3.5–5.6 L ED (fi 40,5mm)
• Samsung: NX300 / NX30 / NX3000 / NX10 / NX20 / NX1000 / NX11 / NX1100 / NX100 / NX2000 s objektivem
• 1: 3.5–5.6 20–50mm II ED
• Sony A5100 / A6000 / A5000 / NEX-5R / NEX-5T / NEX-3N / NEX-6 s objektivem E 3.5–5.6/PZ 16–50 OSS

SPECIFIKACE FILTRU:

• Vyrobeno z kvalitního japonského optického skla
• Oboustranně potažené 28vrstvým povlakem (NANO-X) optické sklo
• Ochranný hydrofobní, protiolejový, protiprachový, proti nečistotám, odolný proti poškrábání.
• Nemění barvu záběru - je zcela neutrální
• Super tenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIM o tloušťce pouhých 5.3 mm
• Žádný negativní vliv na provoz systému AUTOFOCUS
• Včetně robustního ochranného boxu na filtr

• Filtr má povlaky, které rozhodně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistot
• Filtr je opatřen povrchovou úpravou, která vyznačuje vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Státní vynikající ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkách

Včetně:

• 1× filtr
• 1× pevný, pevný obal proti poškrábání, poškození a pro snadnou přepravu filtru

Příklad použití filtru K&F CONCEPT CPL NANO-X

POZOR! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další příslušenství uvedené na fotografiích slouží pouze jako náhled a nejsou předmětem prodeje.

Produkt z výroby nový, v originálním balení.

Kód výrobku (SB kód): SB8640