Nový výrobek, v originálním balení.

UV ultrafialový filtr NANO-X PRO MRC

Velikost filtru: 58 mm

FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITY

URČENO PRO PROFESIONÁLY

FILTR S INOVATIVNÍMI NANO POVLAKY

• HD – vysoké optické rozlišení použitého skla
• NANO-X PRO MRC – antireflexní a ochranné nanovrstvy
• Super nízký profil typu SLIM (pouze tloušťka 3,3 mm)
• Kroužek z galvanicky černého hliníku
• Včetně pevného obalu pro uložení filtru

MODEL: KF01.1207 / 58mm Nano X MCUV

Produkt společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr v kvalitě ve výrobě fotografických filtrů.

Společnost K&F CONCEPT představuje kvalitní profesionální UV filtry. Jedná o špičkové filtry, které jim málo rovnají kvalitou zpracování a stupněm pokročilosti.

Filtr má až tucet nano povlaků nanesených vrstvením na optické šlo.

Ultrafialový filtr – UV absorbuje ultrafialové záření, čímž odděluje záření, které v nejvyšší intenzitě vyskytuje v podmínkách, kde je vzduch mimořádně průhledný (zejména v horách a u moře) a které na fotografii vyvolává zamlžovací efekt.

UV filtr NANO-X PRO MRC nejen zlepšuje kvalitu fotografií, ale je také skvělou ochranou objektivu před všemi druhy pylu, mastnoty, prachu a mechanického poškození.

Vlastnosti filtru K&F UV NANO-X PRO MRC:

• Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a je více než 99,9%
• Filtr má speciální nano povlaky pro výrazné snížení oslnění a zlepšení pořízených snímků.
• Filtr je také potažen povlaky, které vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných nečistot.
• Vynikající hodnota za peníze.

UV filtr NANO-X PRO MRC je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 58mm.

Filtr je vhodný pro fotoaparáty m.in, které mají následující modely objektivů:

Nikon:

• AF-S DX NIKKOR 55–300 mm f/4,5–5,6G ED VR
• AF-S NIKKOR 50 mm f/1,4G
• NIKKOR AF-S 50 mm f/1,8G

Kánon:

• EF-S 18–55mm f / 3,5–5,6 STM
• EF-S 18–55mm f/3.5–5.6 II
• EF 24mm f/2,8 USM
• Objektiv EF 28 mm f/1,8 USM
• EF 28mm f/2.8 USM
• EF 50mm f/1,4 USM
• EF 85mm f/1,8 USM
• TS-E 90mm f/2.8
• EF 100mm f/2 USM
• EF 100mm f/2.8 Macro USM
• EF-S 55–250mm f/4–5.6
• EF 70–300 mm f / 4–5,6 USM
• EF 70–300 mm f / 4,5–5,6 DO USM
• EF 75–300 mm f / 4–5,6 III
• EF 75–300mm f/4–5.6 III USM

Olympus:

• M.ZUIKO DIGITAL ED 40–150mm 1:4.0–5.6 R
• M.ZUIKO DIGITÁLNÍ ED 14–150mm 1:4.0–5.6
• M.ZUIKO DIGITÁLNÍ ED 75mm 1:1.8
• M.ZUIKO DIGITÁLNÍ ED 75–300mm 1:4.8–6.7
• M.ZUIKO DIGITÁLNÍ ED 75–300mm 1:4.8–6.7 II
• ZUIKO DIGITAL ED 70–300 mm 1: 4,0–5,6

Optio: A10, A20, A30, L20, S, S4, S4i, S5i, S5n, S5z, S6, S7, SV, SVi, T10, T20, W20, WP, WPi, X

• SMC Pentax-DA * 55mm F1.4 SDM
• SMC Pentax-DA 55–300mm F4–5,8 ED
• SMC Pentax-DA L 55–300mm F4–5,8 ED

Sigma:

• 70–300 F4–5,6 DG MAKRO
• 70–300 F4–5,6 APO DG MACRO

Panasonic:

• LUMIX GX VARIO 12–35mm / F2,8 ASPH. Objektiv

Samsung:

• 18–55mm F 3,5–5,6 OIS Objektiv S1855SB

SPECIFIKACE FILTRU:

• Vyrobeno z prvotřídního japonského optického skla
• NANO-X PRO MRC – antireflexní a ochranné nanovrstvy
• Nemění barevnost záběru - je zcela neutrální
• Super tenký a lehký hliníkový rám typu SLIM s tloušťkou pouhých 3,3 mm
• Žádný negativní vliv na provoz systému AUTOFOCUS
• Robustní ochranný box na filtr součástí balení

Super tenký a lehký hliníkový rám typu SLIM s tloušťkou pouhých 3,3 mm

Filtr je potažen povlaky, které vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Státní dokonalá ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkách

Filtr má povlaky, které výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných nečistot

Příklad použití filtru K&F CONCEPT NANO-X PRO MRC

Pozor! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další příslušenství zobrazené na fotografiích slouží pouze jako náhled a nejsou předmětem prodeje.

Produkt z výroby nový, v originálním balení.